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氮气烘箱在半导体制程如何选择？

每个半导体产品的制造都需要数百个工艺,整个制造过程分为八个步骤:晶圆加工-氧化-光刻-刻蚀-薄膜沉积-互连-测试-封装。

然而在这数百个工艺中有数道需要烘烤工艺，而且每个烘烤工艺不是完全相同，所以需要的烘烤设备也有差异。

精密氮气烘箱可用于一以下工艺:

RGBT烘烤，PCB板防氧化烘烤，光刻胶固化，硅片高温退火，墨点烘烤，外延片烘烤，LED、治具烘烤等干燥或固化工艺；

洁净氮气烘箱一般用于

光刻胶预烘烤（软烘），坚膜烘箱（硬烘）等工艺烘烤

高温无氧烘箱主要用途

高温无氧烘箱有真空无氧固化炉和热风无尘无氧烘箱

BCB/PI/CPI/LCP/PBO等固化工艺

HMDS烘箱

用于将基底由亲水性改变为疏水性，从而增强基底的粘附性，

适用于MEMS、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。

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氮气烘箱技术性能

无尘等级：Class 100; 选配    
温度范围：RT+15-200/300/400/500℃;
升温速率：8℃/min；

降温方式：自然降温或辅助降温
内腔材质：SUS304/316L＃镜面不锈钢；
外箱材质：冷轧板喷塑或不锈钢；
真空度：可达10Pa(真空无氧烘箱、HMDS烘箱)

氧浓度：可达10ppm(无氧烘箱)
氮气装置：可调式浮子流量计+减压阀