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       湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产上被广泛接受和使用，许多湿法工艺显示了其优越的性能。硅片清洗也显得尤为重要.湿法腐蚀是一种半导体生产中实现图形转移的工艺,由于其高产出,低成本,高可靠性以及有很高的选择比仍被广泛应用. 
刻蚀机，湿法刻蚀机用途：
　　清洗、显影、腐蚀、自动氢氟酸清洗台、去胶台等，该系列设备主机选用进口磁白PP防腐材料，结构美观，洁净度高。可选配QDR清洗槽、三级清洗槽、超声清洗槽以及石英、NPP、PTFE、PVDF、316不锈钢等材质的槽体。可提供适用于2-12英寸晶片的湿法工作，是半导体制作工艺的理想设备。清洗机有自动、手动系列产品。用于半导体芯片、衬底片的清洗及湿法腐蚀、去胶、去蜡、剥离等工艺的专用设备。