就
是
对
待
工
作
的
态
度
，
个产品，
对待每一
做到极致认真
每一个零件
细
致
致
每一组数据
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智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）
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洁净烘箱，百级无尘烘箱
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氮气烘箱，精密充氮烘箱
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LCP热处理烘箱，LCP纤维氮气烘箱
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热风循环真空烘箱，高温热风真空烤箱
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HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )
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智能型无尘无氧烘箱（PI烤箱）
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真空无氧固化炉，高温无氧烘箱
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超低温试验箱，零下-120度高低温箱
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PI无氧烘箱工艺流程
来源:
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作者:隽思半导体设备部
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发布时间: 2023-04-06
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PI光刻胶是一种高性能、高精度的光刻胶，被广泛应用于微电子、光电子、MEMS等领域
PI无氧烘箱工艺的必要性：
PI光刻胶的预烘是将其涂覆在衬底上后，在特定温度下进行一段时间的烘千，使PI溶液中的溶剂挥发掉，PI形成一定的网状结构并增强其附着性。
PI无氧烘箱工艺要求（参考）：
在低氧状态下使用
真空加热，升温至1xx℃
再温至1xx℃(约xh),保温约 30min;
继续升温至x00℃，视涂层厚度不同加热10-x0min
保温 约60min；
降温至100℃以下
PI无氧烘箱性能：
温度：室温+50～400℃
氧浓度：≤10ppm
真空度：1Torr
冷却装置：辅助降温
控制方式：可程式运行
